相關(guān)

半導(dǎo)體 ( semiconductor) ，指常溫下導(dǎo)電性能介于導(dǎo)體 (conductor) 與絕緣體 (insulator) 之間的材料。半導(dǎo)體在收音機(jī)、電視機(jī)以及測(cè)溫上有著廣泛的應(yīng)用。如二極管就是采用半導(dǎo)體制作的器件。半導(dǎo)體是指一種導(dǎo)電性可受控制，范圍可從絕緣體至導(dǎo)體之間的材料。無(wú)論從科技或是經(jīng)濟(jì)發(fā)展的角度來(lái)看，半導(dǎo)體的重要性都是非常巨大的。今日大部分的電子產(chǎn)品，如計(jì)算機(jī)、移動(dòng)電話或是數(shù)字錄音機(jī)當(dāng)中的核心單元都和半導(dǎo)體有著極為密切的關(guān)連。常見(jiàn)的半導(dǎo)體材料有硅、鍺、砷化鎵等，而硅更是各種半導(dǎo)體材料中，在商業(yè)應(yīng)用上最具有影響力的一種。

半導(dǎo)體（ semiconductor ），指常溫下導(dǎo)電性能介于導(dǎo)體 (conductor) 與絕緣體 (insulator) 之間的材料。半導(dǎo)體在收音機(jī)、電視機(jī)以及測(cè)溫上有著廣泛的應(yīng)用。

 

物質(zhì)存在的形式多種多樣，固體、液體、氣體、等離子體等。通常把導(dǎo)電性差的材料，如煤、人工晶體、琥珀、陶瓷等稱為絕緣體。而把導(dǎo)電性比較好的金屬如金、銀、銅、鐵、錫、鋁等稱為導(dǎo)體?？梢院?jiǎn)單的把介于導(dǎo)體和絕緣體之間的材料稱為半導(dǎo)體。與導(dǎo)體和絕緣體相比，半導(dǎo)體材料的發(fā)現(xiàn)是最晚的，直到 20 世紀(jì) 30 年代，當(dāng)材料的提純技術(shù)改進(jìn)以后，半導(dǎo)體的存在才真正被學(xué)術(shù)界認(rèn)可。

 

本征半導(dǎo)體：不含雜質(zhì)且無(wú)晶格缺陷的半導(dǎo)體稱為本征半導(dǎo)體。在極低溫度下，半導(dǎo)體的價(jià)帶是滿帶（見(jiàn)能帶理論），受到熱激發(fā)后，價(jià)帶中的部分電子會(huì)越過(guò)禁帶進(jìn)入能量較高的空帶，空帶中存在電子后成為導(dǎo)帶，價(jià)帶中缺少一個(gè)電子后形成一個(gè)帶正電的空位，稱為空穴?？昭▽?dǎo)電并不是實(shí)際運(yùn)動(dòng)，而是一種等效。電子導(dǎo)電時(shí)等電量的空穴會(huì)沿其反方向運(yùn)動(dòng)   。它們?cè)谕怆妶?chǎng)作用下產(chǎn)生定向運(yùn)動(dòng)而形成宏觀電流，分別稱為電子導(dǎo)電和空穴導(dǎo)電。這種由于電子 - 空穴對(duì)的產(chǎn)生而形成的混合型導(dǎo)電稱為本征導(dǎo)電。導(dǎo)帶中的電子會(huì)落入空穴，電子 - 空穴對(duì)消失，稱為復(fù)合。復(fù)合時(shí)釋放出的能量變成電磁輻射（發(fā)光）或晶格的熱振動(dòng)能量（發(fā)熱）。在一定溫度下，電子 - 空穴對(duì)的產(chǎn)生和復(fù)合同時(shí)存在并達(dá)到動(dòng)態(tài)平衡，此時(shí)半導(dǎo)體具有一定的載流子密度，從而具有一定的電阻率。溫度升高時(shí)，將產(chǎn)生更多的電子 - 空穴對(duì)，載流子密度增加，電阻率減小。無(wú)晶格缺陷的純凈半導(dǎo)體的電阻率較大，實(shí)際應(yīng)用不多。

 

半導(dǎo)體其實(shí)是一種開關(guān)電路，原材料由稀有金屬組合而成，在一定條件下，就能通電。所謂的稀有金屬原材料主要是硅跟鍺這兩種，分為 NPN 和 PNP 兩種組合方式。

集成電路就是把很多的半導(dǎo)體組合在一個(gè)電路板上使用，所謂集成在一起，就是集成電路了。

半導(dǎo)體集成電路（英文名： semiconductor integrated circuit ），是指在一個(gè)半導(dǎo)體襯底上至少有一個(gè)電路塊的半導(dǎo)體集成電路裝置。

半導(dǎo)體集成電路是將晶體管，二極管等等有源元件和電阻器，電容器等無(wú)源元件，按照一定的電路互聯(lián)， “集成”在一塊半導(dǎo)體單晶片上，從而完成特定的電路或者系統(tǒng)功能。

芯片就是把集成電路，通過(guò)技術(shù)把它縮小到指甲大的尺寸，或者更小，然后生產(chǎn)再封裝起來(lái)使用。

 

半導(dǎo)體集成電路是指在半導(dǎo)體基板上，利用氧化、蝕刻、擴(kuò)散等方法，將眾多電子電路組成各式二極管、晶體管等電子組件作在一微小面積上，以完成某一特定邏輯功能（例如： AND 、 OR 、 NAND 等）， 進(jìn)而達(dá)成預(yù)先設(shè)定好的電路功能。半導(dǎo)體的生產(chǎn)工藝要求高，涵蓋光刻、精密切割和研磨等各種復(fù)雜工藝，生產(chǎn)半導(dǎo)體的過(guò)程會(huì)產(chǎn)生大量的廢水， 半導(dǎo)體廢水污染物種類多，成分復(fù)雜，通常包括多種重金屬?gòu)U水，有機(jī)廢水以及硅和氟廢水；同時(shí)半導(dǎo)體 PCW 系統(tǒng)的制程冷卻水須過(guò)濾處理以回用（見(jiàn)水處理應(yīng)用）。

 

清洗工藝及廢水來(lái)源

工藝	清潔源	容器	清潔效果
剝離光刻膠	氧等離子體	平板反應(yīng)器	刻蝕膠
去聚合物	硫酸 : 水 =6:1	溶液槽	除去有機(jī)物
去自然氧化層	氟化氫 : 水 <1:50	溶液槽	產(chǎn)生無(wú)氧表面
旋轉(zhuǎn)甩干	氮?dú)?/span>	甩干機(jī)	無(wú)任殘留物
RCA1#( 堿性 )	氫氧化銨 : 過(guò)氧化氫 : 水 =1:1:1.5	溶液槽	除去表面顆粒
RCA2#( 堿性 )	氯化氫 : 過(guò)氧化氫 : 水 =1 ： 1 ： 5	溶液槽	除去重金屬粒子
DI 清洗	去離子水	溶液槽	除去清洗溶劑

 

問(wèn)題描述

1. 產(chǎn)生廢水量大；

2. 廢水成復(fù)雜，含有各種過(guò)渡性質(zhì)的金屬如硅、鍺等，同時(shí)含有較高含量的氟；

3. 廢水中含有難以處理的較高濃度的 COD 。

 

相關(guān)資料：

半導(dǎo)體廢水中揮發(fā)性有機(jī)物的去除方法；

半導(dǎo)體工廠廢水氨氮處理的運(yùn)行控制和工藝優(yōu)化；

半導(dǎo)體工業(yè)廢水污染特征因子初探；

半導(dǎo)體工業(yè)廢水中除砷的研究；

半導(dǎo)體含硅廢水形成動(dòng)態(tài)膜的影響因素研究；

半導(dǎo)體生產(chǎn)廢水處理及回用技術(shù)介紹；

鉍系半導(dǎo)體材料制備及水污染治理研究進(jìn)展；

微電解處理半導(dǎo)體含銅廢水研究；

 

相關(guān) 設(shè)備：

精密過(guò)濾器

微孔過(guò)濾機(jī)

袋式過(guò)濾器

技術(shù)支持：

如何選擇過(guò)濾設(shè)備 —工況調(diào)查表

常見(jiàn)流體的粘度；

常見(jiàn)顆粒物的大小及設(shè)備選型參考；

常見(jiàn)流體化學(xué)適應(yīng)性表；

選擇過(guò)濾精度時(shí)微米和目數(shù)的關(guān)系；

常見(jiàn)管道尺寸對(duì)照表；

如何挑選合適的過(guò)濾袋 - 過(guò)濾芯 ；

過(guò)濾機(jī)理和形式 ；

過(guò)濾行業(yè)中的常用術(shù)語(yǔ) ；

過(guò)濾行業(yè)常見(jiàn)的單位換算 ；

過(guò)濾的種類及模式 ；

過(guò)濾行業(yè)中的一些名詞定義 ；

常見(jiàn)顆粒物粒徑大小 ；

常用壓濾機(jī)濾布分類 ；

過(guò)濾機(jī)理 ；

幾種過(guò)濾方法能耗分析 ；

幾種金屬顆粒和化合物粒徑分布 ；

顆粒尺寸和對(duì)應(yīng)的過(guò)濾分離方式 ;